Содержание
50 отношения: ASML, Canon, P-n-переход, Sematech, Xeon, Кристаллический кремний, Кремний на изоляторе, Компакт-диск, Контактная печать, КМОП-матрица, Применение лазеров, Просветление оптики, Пластиковая электроника, Полный факторный эксперимент, Печатная плата, АСУ-57, Нанопечатная литография, Нитевидный нанокристалл, НИИПМ (ОАО), Рулонная технология, Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия, Рентгеновская литография, Степпер, Травление, Технологический процесс в электронной промышленности, Тензорезистор, Тензометрия, Фишер, Карл Андреевич, Фототехническая плёнка, Фотографические процессы, Фотогравюра, Фотонный кристалл, Фокин, Евгений Павлович, Экспозиция (фото), Электронная литография, Магниторезистивная оперативная память, Микротехнология, Металлическая микрорешётка, История почты и почтовых марок Алжира, История почты и почтовых марок Израиля, Изобретение интегральной схемы, Интегральная схема, Ионно-лучевая литография, Беннер, Жан, Гибридная микросхема, Гелиос (объектив), Дубление, Дифракционный предел, Лаборатория на чипе, Литография (значения).
ASML
ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель фотолитографических систем для микроэлектронной промышленности. Компания производит оборудование для изготовления СБИС, таких как микросхемы памяти ЗУПД, флеш-память, микропроцессоры.
Посмотреть Фотолитография и ASML
Canon
— транснациональная машиностроительная компания со штаб-квартирой в Токио (Япония), занимающаяся производством различной продукции для фиксации, обработки и печати изображений, медицинского диагностического оборудования, а также разработкой решений в области информационных технологий и телевещания.
Посмотреть Фотолитография и Canon
P-n-переход
p-n-перехо́д или электронно-дырочный переход — область соприкосновения двух полупроводников с разными типами проводимости — дырочной (p, от positive — положительная) и электронной (n, от negative — отрицательная).
Посмотреть Фотолитография и P-n-переход
Sematech
Sematech (Semiconductor Manufacturing Technology) — некоммерческий консорциум, проводящий исследования в области производства интегральных микросхем и внедряющий новые технологии в производство.
Посмотреть Фотолитография и Sematech
Xeon
Xeon — линейка серверных микропроцессоров производства Intel.
Посмотреть Фотолитография и Xeon
Кристаллический кремний
Кристаллический кремний — основная форма, в которой используется кремний при производстве фотоэлектрических преобразователей и твердотельных электронных приборов методами планарной технологии.
Посмотреть Фотолитография и Кристаллический кремний
Кремний на изоляторе
Схема КНИ-подложки Кремний на изоляторе (КНИ, Silicon on insulator, SOI) — технология изготовления полупроводниковых приборов, основанная на использовании трёхслойной подложки со структурой кремний-диэлектрик-кремний вместо обычно применяемых монолитных кремниевых пластин.
Посмотреть Фотолитография и Кремний на изоляторе
Компакт-диск
Компакт-диск (Compact Disc, CD) — оптический носитель информации в виде пластикового диска с отверстием в центре, процесс записи и считывания информации которого осуществляется при помощи лазера.
Посмотреть Фотолитография и Компакт-диск
Контактная печать
Контактная печать — способ получения позитивного изображения в фотографии и кинематографе, при котором отпечаток на фотобумаге или позитивной киноплёнке получается путём экспонирования сквозь прижатый вплотную негатив, без использования объектива.
Посмотреть Фотолитография и Контактная печать
КМОП-матрица
КМОП-матрица — светочувствительная матрица, выполненная на основе КМОП-технологии.
Посмотреть Фотолитография и КМОП-матрица
Применение лазеров
С самого момента разработки лазер называли устройством, которое само ищет решаемые задачи.
Посмотреть Фотолитография и Применение лазеров
Просветление оптики
Просветле́ние о́птики — это нанесение на поверхность линз, граничащих с воздухом, тончайшей плёнки или нескольких слоёв плёнок один поверх другого.
Посмотреть Фотолитография и Просветление оптики
Пластиковая электроника
Под пластиковой или органической электроникой обычно понимают электронные компоненты, основой для создания которых являются полимеры, являющиеся полупроводниками в светодиодах и полностью замещающие кремний в микросхемах.
Посмотреть Фотолитография и Пластиковая электроника
Полный факторный эксперимент
Полный факторный эксперимент (ПФЭ) — совокупность нескольких измерений, удовлетворяющих следующим условиям.
Посмотреть Фотолитография и Полный факторный эксперимент
Печатная плата
Печатная плата со смонтированными на ней электронными компонентами. Гибкая печатная плата с установленными деталями объёмного и поверхностного монтажа. Чертеж платы в CAD-программе и готовая плата кварца.
Посмотреть Фотолитография и Печатная плата
АСУ-57
АСУ-57 (Объект 572) — советская лёгкая противотанковая авиадесантная самоходная артиллерийская установка (САУ) 1950-х годов.
Посмотреть Фотолитография и АСУ-57
Нанопечатная литография
Схема нанопечатной литографии (остатки резиста на вдавленных участках анизотропно вытравливаются):1) подложка,2) резист,3) штамп. Нанопечатная литография (nanoimprint lithography) — технология, предназначенная для переноса изображения наноструктуры или электронной схемы на подложку с покрытием и включающая деформацию покрытия штампом с последующим травлением деформированного покрытия и формированием на подложке наноструктуры или элементов электронной схемы.
Посмотреть Фотолитография и Нанопечатная литография
Нитевидный нанокристалл
InP нановискеры, выращенные на Si подложке Нитевидный нанокристалл (ННК), часто называемый также нановискер (от nanowhisker) или нанонить, нанопроволока (от nanowires), а также наностержень (nanorod) — это одномерный наноматериал, длина которого значительно превосходит остальные измерения, которые, в свою очередь, не превышают нескольких десятков нанометров.
Посмотреть Фотолитография и Нитевидный нанокристалл
НИИПМ (ОАО)
ОАО «НИИПМ» — российская компания.
Посмотреть Фотолитография и НИИПМ (ОАО)
Рулонная технология
Руло́нная техноло́гия или roll-to-roll processing — процесс изготовления электронных приборов на рулонах гибкого пластика или металлической фольги.
Посмотреть Фотолитография и Рулонная технология
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
Схема монохроматической системы рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС). Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (РФЭС) — полуколичественный спектроскопический метод исследования элементного состава, химического и электронного состояния атомов, на поверхности изучаемого материала.
Посмотреть Фотолитография и Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия
Рентгеновская литография
Рентгеновская литогра́фия — технология изготовления электронных микросхем; вариант фотолитографии, использующий экспонирование (облучение) резиста с помощью рентгеновских лучей.
Посмотреть Фотолитография и Рентгеновская литография
Степпер
LAAS, Франция. Степпер (stepper) — установка, использующаяся при изготовлении полупроводниковых интегральных схем.
Посмотреть Фотолитография и Степпер
Травление
медной поверхности Травление — группа технологических приёмов для управляемого удаления поверхностного слоя материала с заготовки под действием химических веществ.
Посмотреть Фотолитография и Травление
Технологический процесс в электронной промышленности
Кристаллический кремний Процессор Apple Технологический процесс полупроводникового производства — технологический процесс изготовления полупроводниковых (п/п) изделий и материалов, и состоит из последовательности технологических (обработка, сборка) и контрольных операций, часть производственного процесса производства п/п изделий (транзисторов, диодов и т. п.).
Посмотреть Фотолитография и Технологический процесс в электронной промышленности
Тензорезистор
сопротивления преувеличено для наглядности. электрических принципиальных схемах. Фольговые тензорезисторы в упаковке. Тензорези́стор (от tensus — напряжённый и resisto — сопротивляюсь) — резистор, сопротивление которого изменяется в зависимости от его деформации.
Посмотреть Фотолитография и Тензорезистор
Тензометрия
Тензометрия (от tensus — напряжённый и μετρέω — измеряю) — совокупность экспериментальных методов определения механического напряжения детали, конструкции.
Посмотреть Фотолитография и Тензометрия
Фишер, Карл Андреевич
Карл Андреевич Фишер (1859 — после 1923, Москва) — известный фотограф, прусский подданный; владелец одного из крупнейших фотографических заведений в Москве «К.Фишер, бывшая Дьяговченко».
Посмотреть Фотолитография и Фишер, Карл Андреевич
Фототехническая плёнка
Фототехническая плёнка — светочувствительный материал, предназначенный для репродукционных работ и для изготовления фотошаблонов и фотоформ, главным образом, в полиграфии и фотолитографии.
Посмотреть Фотолитография и Фототехническая плёнка
Фотографические процессы
Фотографические процессы — совокупность технологий, позволяющая получить фотографическое изображение на фотоматериалах.
Посмотреть Фотолитография и Фотографические процессы
Фотогравюра
Кларенса Уайта «Капли дождя», выполненный в технике гелиогравюры Фотогравю́ра, гелиогравюра (helios — солнце, Gravure — печатный оттиск) — фотомеханический процесс, позволяющий получать типографское клише для глубокой печати полутоновых изображений.
Посмотреть Фотолитография и Фотогравюра
Фотонный кристалл
Фотонный кристалл — твердотельная структура с периодически изменяющейся диэлектрической проницаемостью либо неоднородностью, период которой сравним с длиной волны света.
Посмотреть Фотолитография и Фотонный кристалл
Фокин, Евгений Павлович
Фокин Евгений Павлович (8 декабря 1921, Ликино-Дулёво, Московская губерния — 20 июня 2013, Новосибирск) — советский специалист по органической химии, учёный, доктор химических наук.
Посмотреть Фотолитография и Фокин, Евгений Павлович
Экспозиция (фото)
Экспози́ция (в фотографии, кинематографе и телевидении) — количество актиничного излучения, получаемого светочувствительным элементом.
Посмотреть Фотолитография и Экспозиция (фото)
Электронная литография
Электро́нная литогра́фия или электро́нно-лучева́я литогра́фия — метод нанолитографии с использованием электронного пучка.
Посмотреть Фотолитография и Электронная литография
Магниторезистивная оперативная память
Магниторезистивная оперативная память (MRAM — magnetoresistive random-access memory) — запоминающее устройство с произвольным доступом, которое хранит информацию при помощи магнитных моментов, а не электрических зарядов.
Посмотреть Фотолитография и Магниторезистивная оперативная память
Микротехнология
Внутренние структуры интегральной схемы (3D модель): четыре слоя медной металлизации, поликремний (розовый), колодцы (серый), подложка (зелёный) Микротехнология — процесс изготовления структур, характерный масштаб которых — микрон или менее.
Посмотреть Фотолитография и Микротехнология
Металлическая микрорешётка
Металлическая микрорешётка — синтетический пористый металлический материал, сверхлёгкая форма пенометалла, имеющий малую плотность вплоть до 0,9 мг/см3, разработанный командой учёных из HRL Laboratories в сотрудничестве с исследователями Калифорнийского университета в Ирвайне и Калифорнийского технологического института.
Посмотреть Фотолитография и Металлическая микрорешётка
История почты и почтовых марок Алжира
История почты и почтовых марок Алжира, государства, расположенного в Северной Африке, соотносится главным образом с почтовыми системами.
Посмотреть Фотолитография и История почты и почтовых марок Алжира
История почты и почтовых марок Израиля
История почты и почтовых марок Израиля охватывает периоды развития почтовой связи на территории Израиля, соответствующие почтовым системам древности, османского и британского управления и современного государства Израиль.
Посмотреть Фотолитография и История почты и почтовых марок Израиля
Изобретение интегральной схемы
Идею интеграции множества стандартных электронных компонентов в монолитном кристалле полупроводника впервые предложил в 1952 году британский радиотехник.
Посмотреть Фотолитография и Изобретение интегральной схемы
Интегральная схема
thumb Интегра́льная (микро)схе́ма (ИС, ИМС, м/сх), микросхе́ма, чип (chip — тонкая пластинка — первоначально термин относился к пластинке кристалла микросхемы) — микроэлектронное устройство — электронная схема произвольной сложности (кристалл), изготовленная на полупроводниковой подложке (пластине или плёнке) и помещённая в неразборный корпус или без такового, в случае вхождения в состав микросборки.
Посмотреть Фотолитография и Интегральная схема
Ионно-лучевая литография
Ионно-лучевая литография (ion beam lithography) — технология изготовления электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения с длиной волны 10-200 нм.
Посмотреть Фотолитография и Ионно-лучевая литография
Беннер, Жан
Жан Бе́ннер (младший) (Jean Benner; 28 марта 1836, Мюлуз, Эльзас-Лотарингия, Французская империя — 28 октября 1906, Париж, Французская Республика — французский жанровый и портретный живописец — академист, член Национального общества изящных искусств (Salon de la Société Nationale).
Посмотреть Фотолитография и Беннер, Жан
Гибридная микросхема
Гибридная интегральная схема, гибридная микросхема, микросборка — интегральная схема, в которой наряду с элементами, неразъёмно связанными на поверхности или в объёме подложки, используются навесные микроминиатюрные элементы (транзисторы, конденсаторы, полупроводниковые диоды, катушки индуктивности, вакуумные электронные приборы, кварцевые резонаторы и др.).
Посмотреть Фотолитография и Гибридная микросхема
Гелиос (объектив)
«Ге́лиос» — наименование семейства советских объективов различного назначения: фотографических, киносъёмочных, для аэрофотосъёмки, проекционных и др.
Посмотреть Фотолитография и Гелиос (объектив)
Дубление
Museo de la Piel de Igualada Дубле́ние — технологический процесс в кожевенном производстве, заключающийся в обработке голья дубящими веществами для придания ему пластичности, прочности, износоустойчивости и других свойств, необходимых при выработке кожаных и меховых изделий; взаимодействие дубящих веществ с функциональными группами линейных аминокислотных полимеров с образованием устойчивых поперечных межмолекулярных связей молекул коллагена между собой.
Посмотреть Фотолитография и Дубление
Дифракционный предел
Дифракцио́нный преде́л — это минимальное значение размера пятна (пятно рассеяния), которое можно получить, фокусируя электромагнитное излучение.
Посмотреть Фотолитография и Дифракционный предел
Лаборатория на чипе
Лаборатория на чипе (англ. lab-on-a-chip или micro total analysis systems, сокр. LOC; µTAS), иначе микросистемы полного анализа — миниатюрный прибор, позволяющий осуществлять один или несколько многостадийных (био) химических процессов на одном чипе площадью от нескольких мм2 до нескольких см2 и использующий микро- или наноскопические количества образцов для пробоподготовки и проведения реакций.
Посмотреть Фотолитография и Лаборатория на чипе
Литография (значения)
Литогра́фия (λίθος «камень» + γράφω «пишу, рисую»): В полиграфии.
Посмотреть Фотолитография и Литография (значения)
Также известен как Фототравление.