Содержание
9 отношения: Печатная плата, Светочувствительные материалы, Фотогравировка, Фотолитография, Фотополимер, Фокин, Евгений Павлович, Эффект поля, Ионная имплантация, Ионно-лучевая литография.
Печатная плата
Печатная плата со смонтированными на ней электронными компонентами. Гибкая печатная плата с установленными деталями объёмного и поверхностного монтажа. Чертеж платы в CAD-программе и готовая плата кварца.
Посмотреть Фоторезист и Печатная плата
Светочувствительные материалы
Светочувстви́тельные материа́лы, светочувстви́тельные прибо́ры — химические соединения, вещества, биологические светочувствительные материалы, электронные устройства произвольной сложности, которые под действием электромагнитного излучения (в том числе — видимого света) меняют свои структурные или физико-химические свойства.
Посмотреть Фоторезист и Светочувствительные материалы
Фотогравировка
Фотогравировка (Photoengraving) — новый термин, произошедший дословным переводом английского слова photoengraving.
Посмотреть Фоторезист и Фотогравировка
Фотолитография
Фотолитогра́фия — метод получения определённого рисунка на поверхности материала, широко используемый в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также в производстве печатных плат.
Посмотреть Фоторезист и Фотолитография
Фотополимер
Фотополиме́р или Све́тополимер— вещество, изменяющее свои свойства под воздействием света, чаще ультрафиолетового.
Посмотреть Фоторезист и Фотополимер
Фокин, Евгений Павлович
Фокин Евгений Павлович (8 декабря 1921, Ликино-Дулёво, Московская губерния — 20 июня 2013, Новосибирск) — советский специалист по органической химии, учёный, доктор химических наук.
Посмотреть Фоторезист и Фокин, Евгений Павлович
Эффект поля
Эффект поля (Field-effect) в широком смысле состоит в управлении электрофизическими параметрами поверхности твёрдого тела с помощью электрического поля, приложенного по нормали к поверхности.
Посмотреть Фоторезист и Эффект поля
Ионная имплантация
Ио́нная импланта́ция — способ введения атомов примесей в поверхностный слой пластины или эпитаксиальной пленки путём бомбардировки его поверхности пучком ионов c высокой энергией (10—2000 КэВ).
Посмотреть Фоторезист и Ионная имплантация
Ионно-лучевая литография
Ионно-лучевая литография (ion beam lithography) — технология изготовления электронных микросхем, использующая литографический процесс с экспонированием (облучением) резиста ионными пучками нанометрового сечения с длиной волны 10-200 нм.
Посмотреть Фоторезист и Ионно-лучевая литография
Также известен как Резист, Фоторезисты.