Логотип
Юнионпедия
Связь
Доступно в Google Play
Новый! Скачать Юнионпедия на вашем Android™ устройстве!
Скачать
Более быстрый доступ, чем браузер!
 

Химическое осаждение из газовой фазы

Индекс Химическое осаждение из газовой фазы

углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD (Plasma Enhanced CVD). Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ) (химическое парофазное осаждение, Chemical vapor deposition, CVD) — процесс, используемый для получения высокочистых твёрдых материалов.

37 отношения: NV-центр, Карбид титана, Карбид циркония, Карбид кремния, Пробоотборник, Пар-жидкость-кристалл, Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы, Покрытие (материал), Осаждение, Осаждение металлорганических соединений из газообразной фазы, Омический контакт, Аэрографит, Атомно-слоевое осаждение, Алмаз, Алмазоподобное покрытие, Нанотехнология, Нитевидный нанокристалл, Рулонная технология, Сульфид молибдена(IV), Стабилитрон, Синтетические алмазы, Селенид цинка, Углеродные нанотрубки, Углеродные нановолокна, Финишное плазменное упрочнение, Эпитаксия на металлы, Мягкая химия, Магнитожидкостное уплотнение, Ионное распыление, Браницкий, Геннадий Алексеевич, Вакуум, Вакуумно-дуговое нанесение покрытий, Вакуумное напыление, Графен, Газофазная эпитаксия, Диэлектрическое зеркало, Диоксид кремния.

NV-центр

NV-центр или азото-замещённая вакансия в алмазе — это один из многочисленных точечных дефектов алмаза: нарушение строения кристаллической решётки алмаза, возникающее при удалении атома углерода из узла решётки и связывании образовавшейся вакансии с атомом азота.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и NV-центр · Узнать больше »

Карбид титана

Карбид титана — соединение углерода и металлического титана (хим.формула TiC).

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Карбид титана · Узнать больше »

Карбид циркония

Карби́д цирко́ния – химическое соединение металла циркония и углерода с формулой ZrC.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Карбид циркония · Узнать больше »

Карбид кремния

Карби́д кре́мния (карбору́нд) — бинарное неорганическое химическое соединение кремния с углеродом.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Карбид кремния · Узнать больше »

Пробоотборник

Пробоотборник — это прибор, предназначенный для отбора глубинных проб нефти, воды или газа из скважин с сохранением условий (давления, газонасыщенности) в месте отбора.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Пробоотборник · Узнать больше »

Пар-жидкость-кристалл

'''Рисунок 1:''' Схема роста кремниевых нановискеров в результате газофазной реакции SiCl4 и H2. Реакция катализируется каплями расплава золото-кремний, под которыми происходит рост вискера. Пар-жидкость-кристалл или ПЖК (в английской литературе — vapor-liquid-solid — VLS)) — механизм роста одномерных структур, таких как нановискеры в процессе химического осаждения из газовой фазы. Рост кристалла вследствие осаждения из газовой фазы обычно протекает очень медленно. Однако возможно введение на поверхность капель катализатора, способного адсорбировать вещество из газа до состояния пересыщенного расплава, из которого и будет происходить его кристаллизация на подложку. Таким образом, физические параметры нановискеров могут управляться размером и свойствами жидкого сплава, из которого состоят капли.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Пар-жидкость-кристалл · Узнать больше »

Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы

Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы сокр., ПХО; ПХГФО иначе плазмохимическое газофазное осаждение; осаждение из паровой фазы стимулированное плазмой (plasma-enhanced chemical vapor deposition) — процесс химического осаждения тонких пленок из паровой фазы при низком давлении с использованием высокочастотной плазмы.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы · Узнать больше »

Покрытие (материал)

Покры́тие в материаловедении – это нанесённый на объект относительно тонкий поверхностный слой из другого материала.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Покрытие (материал) · Узнать больше »

Осаждение

thumb Осаждение — это образование твердого осадка в растворе в ходе химической реакции, например, добавлением соответствующих реагентов.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Осаждение · Узнать больше »

Осаждение металлорганических соединений из газообразной фазы

Осаждение металлорганических соединений из газовой фазы (Metalorganic chemical vapour deposition) — метод химического осаждения из газовой фазы путём термического разложения (пиролиза) металлоорганических соединений для получения материалов (металлов и полупроводников), в том числе путём эпитаксиального выращивания.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Осаждение металлорганических соединений из газообразной фазы · Узнать больше »

Омический контакт

Омический контакт — контакт между металлом и полупроводником или двумя полупроводниками, характеризующийся линейной симметричной вольт-амперной характеристикой (ВАХ).

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Омический контакт · Узнать больше »

Аэрографит

Аэрографит представляет собой синтетическую пену, состоящую из трубчатых волокон углерода.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Аэрографит · Узнать больше »

Атомно-слоевое осаждение

Последовательное осаждение реагентов в цикле реакции Атомно-слоевое осаждение (АСО) (Atomic Layer Deposition (ALD)) — это технология осаждения тонких плёнок, которая базируется на последовательных химических реакциях между паром и твёрдым телом и имеет свойство самоограничения.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Атомно-слоевое осаждение · Узнать больше »

Алмаз

Элементарная ячейка алмаза Алма́з (от ἀδάμας «несокрушимый», через ألماس и elmas) — минерал, кубическая аллотропная форма углерода.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Алмаз · Узнать больше »

Алмазоподобное покрытие

Тонкая пленка ta-C на кремнии (15 мм диаметром) в области от 40 до 80 нанометров толщиной Алмазоподобное покрытие (DLC) — технология плазменного импульсного распыления графита в вакуумной камере и осаждение ионов углерода с достаточно большой энергией на изделия.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Алмазоподобное покрытие · Узнать больше »

Нанотехнология

нанотрубок Нанотехноло́гия — область фундаментальной и прикладной науки и техники, имеющая дело с совокупностью теоретического обоснования, практических методов исследования, анализа и синтеза, а также методов производства и применения продуктов с заданной атомной структурой путём контролируемого манипулирования отдельными атомами и молекулами.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Нанотехнология · Узнать больше »

Нитевидный нанокристалл

InP нановискеры, выращенные на Si подложке Нитевидный нанокристалл (ННК), часто называемый также нановискер (от nanowhisker) или нанонить, нанопроволока (от nanowires), а также наностержень (nanorod) — это одномерный наноматериал, длина которого значительно превосходит остальные измерения, которые, в свою очередь, не превышают нескольких десятков нанометров.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Нитевидный нанокристалл · Узнать больше »

Рулонная технология

Руло́нная техноло́гия или roll-to-roll processing — процесс изготовления электронных приборов на рулонах гибкого пластика или металлической фольги.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Рулонная технология · Узнать больше »

Сульфид молибдена(IV)

Сульфид молибдена(IV) (дисульфид молибдена) — неорганическое бинарное химическое соединение четырёхвалентного молибдена с двухвалентной серой.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Сульфид молибдена(IV) · Узнать больше »

Стабилитрон

Полупроводнико́вый стабилитро́н, или диод Зенера — полупроводниковый диод, работающий при обратном смещении в режиме пробоя.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Стабилитрон · Узнать больше »

Синтетические алмазы

Несколько синтетических алмазов (HPHT). Синтетические алмазы или искусственные алмазы (также известные как алмазы, созданные в лаборатории или лабораторно выращенные алмазы) — это алмазы, получаемые в результате искусственного процесса, в отличие от натуральных алмазов, создаваемых в результате геологических процессов.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Синтетические алмазы · Узнать больше »

Селенид цинка

Селенид цинка (ZnSe) — бинарное соединение цинка и селена, прямозонный полупроводник с шириной запрещённой зоны 2.82 эВ при абсолютном нуле и 2.68 эВ — при комнатной температуре.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Селенид цинка · Узнать больше »

Углеродные нанотрубки

Схематическое изображение нанотрубки thumbУглеродная нанотрубка (сокр. УНТ) — это аллотропная модификация углерода, представляющая собой полую цилиндрическую структуру диаметром от десятых до нескольких десятков нанометров и длиной от одного микрометра до нескольких сантиметров (при этом существуют технологии, позволяющие сплетать их в нити неограниченной длины), состоящие из одной или нескольких свёрнутых в трубку графеновых плоскостей.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Углеродные нанотрубки · Узнать больше »

Углеродные нановолокна

Углеродные нановолокна (они же карбоновые нановолокна) — углеродные цилиндрические наноструктуры, представляющие собой сложенные стопкой слои графена в виде конусов, «чашек» или пластин.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Углеродные нановолокна · Узнать больше »

Финишное плазменное упрочнение

Финишное плазменное упрочнение (ФПУ) – безвакуумный и бескамерный процесс плазмоструйного осаждения тонкоплёночного покрытия на основе соединений кремния из газовой фазы при использовании малогабаритного плазмохимического реактора с одновременной плазменной активацией реакционного газового потока и локального участка поверхности изделия, на который наносится покрытие.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Финишное плазменное упрочнение · Узнать больше »

Эпитаксия на металлы

Химическое осаждение паров на металлы позволяет производить графен большой площади с хорошей подвижностью.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Эпитаксия на металлы · Узнать больше »

Мягкая химия

Мягкая химия (soft chemistry) — устоявшееся название совокупности химических методов получения твердофазных материалов, подразумевающих минимальное использование высоких температур и давлений.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Мягкая химия · Узнать больше »

Магнитожидкостное уплотнение

Магнитожидкостное уплотнение (МЖУ) — это механическое уплотнение, в котором роль уплотняющего элемента выполняет магнитная жидкость.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Магнитожидкостное уплотнение · Узнать больше »

Ионное распыление

Ио́нное распыле́ние — эмиссия атомов с поверхности твёрдого тела при его бомбардировке тяжёлыми заряженными или нейтральными частицами.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Ионное распыление · Узнать больше »

Браницкий, Геннадий Алексеевич

Брани́цкий Генна́дий Алексе́евич (7 ноября 1938, в г. Фергана, УзССР) — профессор, доктор химических наук, работник НИИ физико-химических проблем БГУ, заместитель декана химического факультета (1967—1973), заместитель и исполняющий обязанности директора НИИ ФХП (1978—1987), декан химического факультета БГУ(1973 — 1978, 1995 — 2005), заведующий лабораторией химии тонких пленок Учреждения Белорусского государственного университета «Научно-исследовательский институт физико-химических проблем» (2005 — 2010), заслуженный деятель науки (1998).

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Браницкий, Геннадий Алексеевич · Узнать больше »

Вакуум

Насос для демонстрации вакуума Ва́куум (от vacuus — пустой) — пространство, свободное от вещества.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Вакуум · Узнать больше »

Вакуумно-дуговое нанесение покрытий

Вакуумно-дуговое нанесение покрытий (катодно-дуговое осаждение) — это физический метод нанесения покрытий (тонких плёнок) в вакууме, путём конденсации на подложку (изделие, деталь) материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде-мишени в катодном пятне вакуумной дуги сильноточного низковольтного разряда, развивающегося исключительно в парах материала электрода.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Вакуумно-дуговое нанесение покрытий · Узнать больше »

Вакуумное напыление

Молекулярный уровень процесса вакуумного напыления — модель Установка для вакуумного напыления Детали с покрытием из нитрида титана, полученным вакуумным напылением с электродуговым нагревом Вакуумное напыление (physical vapour deposition, PVD; напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы) — группа методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Вакуумное напыление · Узнать больше »

Графен

Графе́н (graphene) — двумерная аллотропная модификация углерода, образованная слоем атомов углерода толщиной в один атом, находящихся в sp²-гибридизации и соединённых посредством σ- и π-связей в гексагональную двумерную кристаллическую решётку.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Графен · Узнать больше »

Газофазная эпитаксия

Газофа́зная эпитаксия — получение эпитаксиальных слоев полупроводников путём осаждения из паро-газовой фазы.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Газофазная эпитаксия · Узнать больше »

Диэлектрическое зеркало

Диэлектри́ческое зе́ркало — зеркало, отражающие свойства которого формируются благодаря покрытию из нескольких чередующихся тонких слоёв из различных диэлектрических материалов.

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Диэлектрическое зеркало · Узнать больше »

Диоксид кремния

Диоксид кремния (кремнезём, SiO2; silica) — оксид кремния (IV).

Новый!!: Химическое осаждение из газовой фазы и Диоксид кремния · Узнать больше »

Перенаправления здесь:

CVD-процесс, Химическое осаждение из паровой фазы, Химическое осаждение паров, Химическое парофазное осаждение, ХОГФ.

ИсходящиеВходящий
Привет! Мы на Facebook сейчас! »