Более быстрый доступ, чем браузер!
8 отношения: Плазмохимический синтез нанопорошков, Роснано, Свободные радикалы, Финишное плазменное упрочнение, Химическое осаждение из газовой фазы, Ионная имплантация, Ионное распыление, Высокочастотный разряд.
Плазмохимический синтез нанопорошков
Плазмохимический синтез нанопорошков — химический метод получения высокодисперсных порошков нитридов, карбидов, боридов и оксидов, заключающийся в протекании реакции в низкотемпературной плазме вдали от равновесия при высокой скорости образования зародышей новой фазы и малой скорости их роста.
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Плазмохимический синтез нанопорошков · Узнать больше »
Роснано
АО «Роснано» — российская компания, созданная в 2011 году путем реорганизации государственной корпорации «Российская корпорация нанотехнологий».
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Роснано · Узнать больше »
Свободные радикалы
Свободные радикалы в химии — частицы (как правило, неустойчивые), содержащие один или несколько неспаренных электронов на внешней электронной оболочке.
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Свободные радикалы · Узнать больше »
Финишное плазменное упрочнение
Финишное плазменное упрочнение (ФПУ) – безвакуумный и бескамерный процесс плазмоструйного осаждения тонкоплёночного покрытия на основе соединений кремния из газовой фазы при использовании малогабаритного плазмохимического реактора с одновременной плазменной активацией реакционного газового потока и локального участка поверхности изделия, на который наносится покрытие.
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Финишное плазменное упрочнение · Узнать больше »
Химическое осаждение из газовой фазы
углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD (Plasma Enhanced CVD). Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ) (химическое парофазное осаждение, Chemical vapor deposition, CVD) — процесс, используемый для получения высокочистых твёрдых материалов.
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Химическое осаждение из газовой фазы · Узнать больше »
Ионная имплантация
Ио́нная импланта́ция — способ введения атомов примесей в поверхностный слой пластины или эпитаксиальной пленки путём бомбардировки его поверхности пучком ионов c высокой энергией (10—2000 КэВ).
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Ионная имплантация · Узнать больше »
Ионное распыление
Ио́нное распыле́ние — эмиссия атомов с поверхности твёрдого тела при его бомбардировке тяжёлыми заряженными или нейтральными частицами.
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Ионное распыление · Узнать больше »
Высокочастотный разряд
Высокочастотный разряд — вид газового разряда, возникающий в присутствии высокочастотного электромагнитного поля.
Новый!!: Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы и Высокочастотный разряд · Узнать больше »
Перенаправления здесь:
Плазмохимическое газофазное осаждение, Осаждение из паровой фазы стимулированное плазмой.
