Мы работаем над восстановлением приложения Unionpedia в Google Play Store
ИсходящиеВходящий
🌟Мы упростили наш дизайн для улучшения навигации!
Instagram Facebook X LinkedIn

Вакуумное напыление

Индекс Вакуумное напыление

Молекулярный уровень процесса вакуумного напыления — модель Установка для вакуумного напыления Детали с покрытием из нитрида титана, полученным вакуумным напылением с электродуговым нагревом Вакуумное напыление (physical vapour deposition, PVD; напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы) — группа методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.

Содержание

  1. 21 отношения: Конденсация, Просветление оптики, Отражение (физика), Никель, Светофильтр, Титан (элемент), Тонкие плёнки, Термическое напыление, Фокусируемый ионный пучок, Химическая реакция, Химическое осаждение из газовой фазы, Эпитаксия, Магнетронное распыление, Микроэлектроника, Металлизация, Медь, Ионное распыление, Железо, Вакуумно-дуговое нанесение покрытий, Газотермическое напыление, Газовый разряд.

  2. Плазменная обработка
  3. Покрытия
  4. Технология полупроводников

Конденсация

Роса на паутине Конденсация на бутылке холодной воды Конденсация водяного пара в воздухе над чашкой горячей воды точки росы); ''be'', ''cd'' — ''линии конденсации''; ''abcK'' — ''нижняя пограничная кривая''; ''Kdef'' — ''верхняя пограничная кривая (линия росы)''; ''abcKdef'' — ''бинодаль'' (граница между однофазным и двухфазным состояниями; область под колоколом бинодали — область двухфазного равновесия жидкость — пар) Конденса́ция паров (condense — накопляю, уплотняю, сгущаю) — переход вещества в жидкое или твёрдое состояние из газообразного (обратный последнему процессу называется сублимация).

Посмотреть Вакуумное напыление и Конденсация

Просветление оптики

Просветле́ние о́птики — это нанесение на поверхность линз, граничащих с воздухом, тончайшей плёнки или нескольких слоёв плёнок один поверх другого.

Посмотреть Вакуумное напыление и Просветление оптики

Отражение (физика)

Отражение птицы в воде Отраже́ние — физический процесс взаимодействия волн или частиц с поверхностью, изменение направления волнового фронта на границе двух сред с разными свойствами, в котором волновой фронт возвращается в среду, из которой он пришёл.

Посмотреть Вакуумное напыление и Отражение (физика)

Никель

Ни́кель — элемент десятой (по устаревшей короткопериодной форме — восьмой) группы, четвёртого периода периодической системы химических элементов Д. И. Менделеева, с атомным номером 28.

Посмотреть Вакуумное напыление и Никель

Светофильтр

Набор светофильтров. Светофильтр в оптике, технике — оптическое устройство, которое служит для подавления (выделения) части спектра электромагнитного излучения.

Посмотреть Вакуумное напыление и Светофильтр

Титан (элемент)

Тита́н — Простое вещество титан — лёгкий прочный металл серебристо-белого цвета.

Посмотреть Вакуумное напыление и Титан (элемент)

Тонкие плёнки

Тонкие плёнки (thin films) — тонкие слои материала, толщина которых находится в диапазоне от долей нанометра (моноатомного слоя) до нескольких микрон.

Посмотреть Вакуумное напыление и Тонкие плёнки

Термическое напыление

Термическое напыление (также известное как термическое испарение) — широко распространённый метод вакуумного напыления.

Посмотреть Вакуумное напыление и Термическое напыление

Фокусируемый ионный пучок

Фокусируемый ионный луч (ФИЛ, Фокусируемый ионный пучок; Focused ion beam (FIB)) — широко используемая методика в материаловедении для локального анализа, напыления и травления материалов.

Посмотреть Вакуумное напыление и Фокусируемый ионный пучок

Химическая реакция

Хими́ческая реа́кция — превращение одного или нескольких исходных веществ (реагентов) в другие вещества, при котором ядра атомов не меняются, при этом происходит перераспределение электронов и ядер, и образуются новые химические вещества.

Посмотреть Вакуумное напыление и Химическая реакция

Химическое осаждение из газовой фазы

углеродных нанотрубок в лабораторной установке PECVD (Plasma Enhanced CVD). Химическое осаждение из газовой фазы (ХОГФ) (химическое парофазное осаждение, Chemical vapor deposition, CVD) — процесс, используемый для получения высокочистых твёрдых материалов.

Посмотреть Вакуумное напыление и Химическое осаждение из газовой фазы

Эпитаксия

Эпитаксия — это закономерное нарастание одного кристаллического материала на другом при более низких температурах (от επι — на и ταξισ — упорядоченность), то есть ориентированный рост одного кристалла на поверхности другого (подложки).

Посмотреть Вакуумное напыление и Эпитаксия

Магнетронное распыление

Магнетронная распылительная система (магнетрон) Магнетронное распыление — технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда — диодного разряда в скрещенных полях.

Посмотреть Вакуумное напыление и Магнетронное распыление

Микроэлектроника

Кремниевые пластины с готовыми микросхемами перед разрезанием на отдельные кристаллы Микроэлектроника — это подраздел электроники, связанный с изучением и производством электронных компонентов с геометрическими размерами характерных элементов порядка нескольких микрометров и меньше.

Посмотреть Вакуумное напыление и Микроэлектроника

Металлизация

Электродуговая металлизация Металлиза́ция — метод модификации свойств поверхности изделия путём нанесения на его поверхность слоя металла.

Посмотреть Вакуумное напыление и Металлизация

Медь

Медь (Cu от Cuprum) — элемент одиннадцатой группы четвёртого периода (побочной подгруппы первой группы) периодической системы химических элементов Д. И. Менделеева, с атомным номером 29.

Посмотреть Вакуумное напыление и Медь

Ионное распыление

Ио́нное распыле́ние — эмиссия атомов с поверхности твёрдого тела при его бомбардировке тяжёлыми заряженными или нейтральными частицами.

Посмотреть Вакуумное напыление и Ионное распыление

Железо

Желе́зо (Fe от Ferrum) — элемент восьмой группы (по старой классификации — побочной подгруппы восьмой группы) четвёртого периода периодической системы химических элементов Д. И. Менделеева с атомным номером 26.

Посмотреть Вакуумное напыление и Железо

Вакуумно-дуговое нанесение покрытий

Вакуумно-дуговое нанесение покрытий (катодно-дуговое осаждение) — это физический метод нанесения покрытий (тонких плёнок) в вакууме, путём конденсации на подложку (изделие, деталь) материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде-мишени в катодном пятне вакуумной дуги сильноточного низковольтного разряда, развивающегося исключительно в парах материала электрода.

Посмотреть Вакуумное напыление и Вакуумно-дуговое нанесение покрытий

Газотермическое напыление

Процесс газотермического напыления — газопламенное напыление Газотермическое напыление (Thermal Spraying) — это процесс нагрева, диспергирования и переноса конденсированных частиц распыляемого материала газовым или плазменным потоком для формирования на подложке слоя нужного материала.

Посмотреть Вакуумное напыление и Газотермическое напыление

Газовый разряд

Га́зовый разря́д — совокупность процессов, возникающих при протекании электрического тока через вещество, находящееся в газообразном состоянии.

Посмотреть Вакуумное напыление и Газовый разряд

См. также

Плазменная обработка

Покрытия

Технология полупроводников

Также известен как PVD, PVD-процесс, Физическое осаждение из газовой фазы.